Loading...

Справка

Шрифт

Интервал

Цветовая схема

Изображения

Каталог Тверских изобретений

Main navigation

  • Главная
  • Патенты на изобретения
    • Авторы
    • Патентообладатель
  • Патенты на полезные модели
    • Авторы
    • Патентообладатель

СПОСОБ РАДИАЛЬНОГО РАЗРАЩИВАНИЯ ПРОФИЛИРОВАННЫХ МОНОКРИСТАЛЛОВ ГЕРМАНИЯ

Строка навигации

  • Главная
  • СПОСОБ РАДИАЛЬНОГО РАЗРАЩИВАНИЯ ПРОФИЛИРОВАННЫХ МОНОКРИСТАЛЛОВ ГЕРМАНИЯ
26.09.2017
2631810
C30B15/34
Каплунов Иван Александрович (RU)
Колесников Александр Игоревич (RU)
Третьяков Сергей Андреевич (RU)
Айдинян Нарек Ваагович (RU)
Соколова Елена Ивановна (RU)
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тверской государственный университет" (RU)
170100, г. Тверь, ул. Желябова, 33, Тверской государственный университет, Управление интеллектуальной собственности

Изобретение относится к технологии выращивания профилированных монокристаллов германия из расплава, применяемых в качестве материала для детекторов ионизирующих излучений, для изготовления элементов оптических и акустооптических устройств ИК-диапазона – линз и защитных окон объективов тепловизионных приборов, лазеров на окиси углерода, а также для изготовления подложек фотоэлектрических преобразователей. Способ включает установку в тигель вертикального формообразователя с отверстиями в месте примыкания его нижней части к тиглю для удаления образующегося при кристаллизации избыточного расплава, размещение в проточках вертикального формообразователя горизонтальных формообразующих элементов выпукло-вогнутой формы, загрузку исходной шихты в вертикальный формообразователь, ее нагрев с образованием расплава, погружение затравочного кристалла в расплав, разращивание кристалла путем снижения температуры при одновременном вытягивании, остановку вертикального вытягивания кристалла и дальнейшее разращивание кристалла до полной кристаллизации расплава, при этом увеличение кристалла по радиусу от момента остановки вытягивания до полной кристаллизации расплава проводят путем общего понижения температуры, одновременно осуществляя, с периодом 20 минут, подплавления и разращивания кристалла, вызываемые повышением и понижением температуры с амплитудой ±3°С. Такой режим роста приводит к уменьшению концентраций основных дефектов структуры и связанных с ними оптических неоднородностей и физически эквивалентен дополнительному отжигу во время формирования кристалла. Тем самым решается технический результат, заключающийся в повышении структурного и оптического качества крупногабаритных монокристаллов в форме заготовки, в максимальной степени близкой к форме изготавливаемых линз и других элементов оптических, акустооптических и фотоэлектрических устройств на основе германия. 3 ил., 2 пр.

 


Яндекс.Метрика

© 2026 Тверская областная универсальная научная библиотека им. А.М. Горького - Все права защищены